2016年3月11日，中国专利保护协会和日本知识产权协会主办、重庆知识产权保护促进会协办的第九届中日企业合作会议在重庆顺利举办。中国专利保护协会副秘书长马维野，日本知识产权协会前理事长竹本一志，重庆知识产权保护促进会会长袁杰出席会议并致辞。中日企业代表共90余人参加了会议。
会上，中日双方共12名企业发言人围绕企业如何制定知识产权保护战略和建构支撑企业战略的知识产权组织体制做了主题发言。日本佳能、NTT、日立的企业代表分别介绍了本企业经营战略的调整，并重点介绍了企业专利、商标、外观设计的保护战略；中方企业太极、紫光化工、润泽医药代表就知识产权与市场的关系阐述了各自的观点，并就专利申请战略的具体分类、条件保障等介绍了企业的经验。重庆机电、力帆、隆鑫动力等中方企业和富士通、理光、JFE等日方企业则在发言中共同探讨了如何构建和构建怎样的知识产权组织体制以实现企业的经营战略主题。与会人员围绕相关主题进行了深入、热烈的研讨。
中日企业合作会议至今已连续举办九届，通过交流研讨，不仅促进了两国企业间的相互了解与学习，还帮助企业进一步认识到知识产权作为企业战略资本的重要作用。参会企业代表都表示希望继续加强和深化双方的合作。（谢青）
本文转自：中国专利保护协会
原文链接：
http://www.ppac.org.cn/show.php?contentid-1310.html
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